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Tecnai G2 F20

Tecnai G2 F20

TEM Active

Thermo Fisher Scientific — Tecnai G2 F20

Field-emission TEM for general-purpose imaging and diffraction analysis. 범용 이미징 및 회절 분석을 위한 전계방출 TEM입니다.
Voltage 80/120/200 kV
Gun S-FEG
Monochromator N/A
Pole-piece S-twin (5.4 mm)
EDS Oxford Ultim-Max TLE (0.5-1.1 sr)
Camera Gatan Rio16 CMOS
Accessories Nanomegas ASTAR, TOPSPIN
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Overview

The Thermo Fisher Scientific Tecnai G2 F20 is a field-emission TEM designed for general-purpose imaging, diffraction, and analytical work. Equipped with an Oxford Ultim-Max TLE EDS detector and Nanomegas ASTAR/TOPSPIN systems, it supports a broad range of materials characterization tasks from conventional TEM imaging to automated crystal orientation mapping.

Key Features

  • S-FEG electron source: Schottky field-emission gun providing stable, high-brightness illumination
  • Oxford Ultim-Max TLE EDS (0.5–1.1 sr): Large solid-angle EDS for efficient elemental analysis
  • Gatan Rio16 CMOS camera: High-resolution digital imaging for TEM and diffraction
  • Nanomegas ASTAR: Automated crystal orientation and phase mapping via precession electron diffraction
  • Nanomegas TOPSPIN: Strain mapping at the nanoscale through nanobeam diffraction analysis
  • Multi-voltage operation: 80, 120, and 200 kV for flexible imaging conditions

Applications

  • General-purpose TEM imaging and selected area electron diffraction (SAED)
  • EDS compositional analysis of thin-film and bulk specimens
  • Crystal orientation mapping via precession electron diffraction (ASTAR)
  • Nanoscale strain analysis using TOPSPIN
  • Routine materials characterization for metals, oxides, and semiconductors

개요

Thermo Fisher Scientific Tecnai G2 F20은 범용 이미징, 회절, 분석 작업을 위해 설계된 전계방출 TEM입니다. Oxford Ultim-Max TLE EDS 검출기와 Nanomegas ASTAR/TOPSPIN 시스템을 탑재하여, 일반 TEM 이미징부터 자동 결정 방위 매핑까지 폭넓은 소재 분석 업무를 지원합니다.

주요 특징

  • S-FEG 전자원: 안정적이고 고휘도의 Schottky 전계방출 전자총
  • Oxford Ultim-Max TLE EDS (0.5–1.1 sr): 대입체각 EDS로 효율적인 원소 분석 지원
  • Gatan Rio16 CMOS 카메라: TEM 및 회절 측정을 위한 고해상도 디지털 이미징
  • Nanomegas ASTAR: precession electron diffraction을 이용한 자동 결정 방위 및 상 매핑
  • Nanomegas TOPSPIN: nanobeam diffraction 분석을 통한 나노스케일 변형률 매핑
  • 다중 가속전압: 80, 120, 200 kV로 유연한 이미징 조건 설정

응용 분야

  • 범용 TEM 이미징 및 제한시야 전자회절 (SAED)
  • 박막 및 벌크 시편의 EDS 조성 분석
  • Precession electron diffraction (ASTAR)을 이용한 결정 방위 매핑
  • TOPSPIN을 이용한 나노스케일 변형률 분석
  • 금속, 산화물, 반도체의 일반 소재 분석